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    MESA/SC晶片清洗設備

    發布時間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點擊:111次

    MESA/SC晶片清洗設備(圖1)

     

    概述:

    該設備用于晶片的清洗處理。該機清洗程序為酸洗、超聲洗、噴淋清洗、流洗。其工藝性能指標及可靠性完全達到進口同類設備水平。

    主要特點:

    采用進口PP板制作。

    適用MESA*SC晶片清洗。

    超聲功率強勁,性能穩定。

    采用進口超聲波電源。


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